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工艺菜单定制


致真设备可根据客户需求,开发如自旋、超导量子、MEMS等领域的薄膜工艺菜单: 自旋磁性多层膜:PMA、TMR等; 超导量子:Nb、NbN、约瑟夫森结等; MEMS: AlN、ZnO等 。

桌面式磁控溅射系统—MS-200


MS-200磁控溅射系统是一款小型台面式溅射系统,具有高真空、单原子层沉积精度的特点,可以灵活选择阴极向上或向下溅射。设备标配1个2英寸超高真空阴极。满足简单的材料研究需求。

真空退火炉—VF-200


真空退火炉是改善薄膜质量的有效手段,在特殊气体氛围下加热还可以改善薄膜的组分。VF-200是致真设备公司推出的一款标准型退火炉,可与公司其他工艺腔体互联实现薄膜的原位退火,也可以单独使用。还可以选配磁铁模块实现对磁性薄膜的诱导,系统搭配控制软件,运行稳定可靠!

工艺菜单定制


致真设备可根据客户需求,开发如自旋、超导量子、MEMS等领域的薄膜工艺菜单: 自旋磁性多层膜:PMA、TMR等; 超导量子:Nb、NbN、约瑟夫森结等; MEMS: AlN、ZnO等 。

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合肥致真精密设备有限公司

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