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电子束蒸发系统—E-Beam-UHV


该电子束蒸发系统可以在超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备,线性电子束枪可实现多种材料的蒸发,设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗,可用于超导量子等领域,适用于高校及企业研发和小规模生产场合。

电子束蒸发系统—E-Beam-HV


该电子束蒸发系统可以在高真空环境下实现多层薄膜制备,沉积腔室可方便打开实现材料和样品的更换,旋转电子束枪可实现多种材料的蒸发,设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗,可用于超导量子等领域,适用于高校及企业研发和小规模生产场合。

分子束外延系统—MBE-400


分子束外延系统是实验室中制备高性能单晶材料薄膜的核心设备,可用于制备高性能的氧化物材料、拓扑绝缘体等。系统采用模块化设计方便后续升级维护,可与我司其他设备互联实现多种材料的沉积。

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合肥致真精密设备有限公司

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