产品中心

量产级多功能薄膜沉积系统

该系统基于晶圆真空传输平台VTM,可以灵活配备传输腔室和工艺腔室,工艺腔室可选配电子束蒸发腔室、分子束外延腔室、溅射腔室、热蒸发腔室和预清洗腔室等。可实现多种材料的精确沉积。

查看详情

薄膜工艺开发服务

致真设备拥有多种型号高精度磁控溅射设备,可根据客户需求,定制薄膜工艺开发服务,为客户提供全面的工艺开发与技术支持。

查看详情

晶圆真空传输平台—VTM

晶圆真空传输平台采用四边形、六边形或八边形设计,可以实现多个工艺室的互联,系统可选配机械臂和校准装置,可实现8或12吋晶圆的自动传输。系统搭配控制软件可实现安全可靠的控制。

查看详情

超高真空管道传输系统

生产型磁控溅射系统是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的磁控溅射装备。MSI-200型磁控溅射设备采用多个真空腔室互联的设计,通过Cluster内置的三维机械手实现晶圆的传输,可搭配多个溅射室或处理腔室,适用于生产产线或实验线。

查看详情

生产型磁控溅射系统—MSI-100-HV

生产型磁控溅射系统是针对企业和高校实验室及小试线研发的高性能、低成本和高效率的磁控溅射装备。MSI-100型磁控溅射设备采用简单可靠的模块化设计,包括进样室和溅射室,可满足8inch晶圆上纳米级材料的生产制备需求,具有稳定、可靠、成本低的特点。

查看详情
< 12345 > 前往

合肥致真精密设备有限公司

地址:合肥市新站区魏武路与文忠路交汇处北航合肥创新研究院主楼D栋
            合肥市肥西县经济开发区繁华大道与大观亭路交口西南角立恒工业广场二期A12栋508室(交付)
             电话:0551-66020758

            19315277762(胡总)