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科研级设备

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超高真空组件

定制系统及工艺菜单

PLD靶台

致真设备推出了多款超高真空生长源（磁控溅射阴极&PLD靶台）： 可以实现磁性材料和非磁性材料的高精度生长，靶面进气，可以调节溅射角度与距离；

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PLD靶台

辐射式高温样品台

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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辐射式高温样品台

8寸或12寸Cluster系统

致真设备推出了多款快速进样室系统： 可以实现2inch，4inch和8inch晶圆的存储，抓取与传输；可以选配2inch和4inch进样室自动传输；

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8寸或12寸Cluster系统

进样室样品停放台

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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进样室样品停放台

工艺菜单定制

致真设备可根据客户需求，开发如自旋、超导量子、MEMS等领域的薄膜工艺菜单：

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工艺菜单定制

科研级磁控溅射系统—MS-200

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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科研级磁控溅射系统—MS-200

科研级磁控溅射系统—MS-300

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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科研级磁控溅射系统—MS-300

多系统真空互联

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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多系统真空互联
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合肥致真精密设备有限公司

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            合肥市肥西县经济开发区繁华大道与大观亭路交口西南角立恒工业广场二期A12栋508室（交付）
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