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科研级磁控溅射系统—MS-200

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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科研级磁控溅射系统—MS-200

科研级磁控溅射系统—MS-300

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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科研级磁控溅射系统—MS-300

科研级磁控溅射系统—MS-400

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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科研级磁控溅射系统—MS-400

科研级磁控溅射系统—MS-700

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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科研级磁控溅射系统—MS-700

脉冲激光沉积系列—PLD-400

脉冲激光沉积系列设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。

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脉冲激光沉积系列—PLD-400

真空退火炉—VF-200

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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真空退火炉—VF-200
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合肥致真精密设备有限公司

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