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PLD靶台

致真设备推出了多款超高真空生长源（磁控溅射阴极&PLD靶台）： 可以实现磁性材料和非磁性材料的高精度生长，靶面进气，可以调节溅射角度与距离；

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PLD靶台

辐射式高温样品台

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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辐射式高温样品台

8寸或12寸Cluster系统

致真设备推出了多款快速进样室系统： 可以实现2inch，4inch和8inch晶圆的存储，抓取与传输；可以选配2inch和4inch进样室自动传输；

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8寸或12寸Cluster系统

进样室样品停放台

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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进样室样品停放台

2~4 inch进样室

致真设备推出了多款快速进样室系统： 可以实现2inch，4inch和8inch晶圆的存储，抓取与传输；可以选配2inch和4inch进样室自动传输；

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2~4 inch进样室

固定长度阴极

致真设备推出了多款超高真空生长源（磁控溅射阴极&PLD靶台）：可以实现磁性材料和非磁性材料的高精度生长，靶面进气，可以调节溅射角度与距离；

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固定长度阴极

超高真空生长源

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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超高真空生长源

线性驱动

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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线性驱动
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合肥致真精密设备有限公司

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