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科研级磁控溅射系统—MS-700


该型磁控溅射系统是一款多功能多靶磁控溅射系统,具有超高真空,单原子层沉积精度的特点。可根据需求配置4inch以下的圆形阴极,可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产中高精度工艺以及多靶溅射的需求。

关键词:

高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发

所属分类:

科研级薄膜制备系统

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科研级磁控溅射系统—MS-700

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