分子束外延系统—MBE-400
公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备，提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。
关键词：
高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发
所属分类：
科研级薄膜制备系统
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分子束外延系统—MBE-400
详情介绍
分子束外延系统是实验室中制备高性能单晶材料薄膜的核心设备，可用于制备高性能的氧化物材料、拓扑绝缘体等。系统采用模块化设计方便后续升级维护，可与我司其他设备互联实现多种材料的沉积。
性能参数
| 晶圆尺寸 | 2inch |
| 极限真空 | 优于1×10-10mbar |
| 真空测量 | 离子规+阴极规+皮拉尼规 |
| 真空泵组 | 机械泵+分子泵+吸附泵+冷阱（液氮，可选） |
| 温控 | RT-800℃，可选RT-1200℃ |
| 蒸发源 | RT-800℃，可选RT-1200℃ |
| 膜厚测量 | 膜厚仪，可伸缩 |
| 原位监控 | 膜厚仪，可伸缩 |
| 进样室 | 可装载6片2inch晶圆 |
| 控制系统 | PC+PLC，全自动操作与安全互锁 |
| 占地面积 | 3m L*2m W*2m H |
| 可选 | 低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等 |
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