脉冲激光沉积系列—PLD-400

脉冲激光沉积系列设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。

关键词：

高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发

所属分类：

科研级设备

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脉冲激光沉积系列—PLD-400

详情介绍

　　脉冲激光沉积系列设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。PLD-400型脉冲激光沉积设备，标配6个1inch靶材，靶材可以原位更换，配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。

性能参数

晶圆尺寸	2inch
极限真空	5×10-9mbar
温控	RT-1200℃
靶台数量	6个1inch 靶材，公自转设计
靶材更换	原位更换靶材
激光源	可选准分子激光器
常用材料	BFO、SRO、VO2等
占地面积	3m L2m W2m H
可选	低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等

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