PLD靶台

致真设备推出了多款超高真空生长源（磁控溅射阴极&PLD靶台）：可以实现磁性材料和非磁性材料的高精度生长，靶面进气，可以调节溅射角度与距离；

关键词：

高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发

所属分类：

超高真空组件

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PLD靶台

详情介绍

致真设备推出了多款超高真空生长源（磁控溅射阴极&PLD靶台）：

可以实现磁性材料和非磁性材料的高精度生长，靶面进气，可以调节溅射角度与距离；

可根据需求设计多个阴极共焦，高效水冷，配备气动挡板、烟囱、降低起辉气压；

兼容DC、RF、DC Pulse和HIPIMS电源；

PLD靶台可安装6个1inch靶材，公自转设计。

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