高精度磁控溅射设备的特点有哪些

发布时间：

2023/06/19 23:35

尤其是通过多次磁控溅射达成一步法对设备的要求极高。即使在两步法和三步法中，磁控溅射设备也是目前影响复合铜箔产线良率及效率的关键环节。

目前复合铜箔行业主流制造方法是"磁控溅射-水电镀"的工艺路径。磁控溅射设备是极其关键的装备。在复合铜箔的生产过程中，磁控溅射工艺的相关技术指标会直接影响复合铜箔的生产效率和成品质量，需要设备厂商在生产调试过程中具备相当的know-how能力。

目前复合铜箔行业主流制造方法是的工艺路径。磁控溅射设备是极其关键的装备。在复合铜箔的生产过程中，磁控溅射工艺的相关技术指标会直接影响复合铜箔的生产效率和成品质量，需要设备厂商在生产调试过程中具备相当的know-how能力。

►：公司重点研发复合铜箔一体机设备，该设备以真空磁控溅射为核心，计划于23年1季度完成组装调试，正式推向市场。公司披露真空磁控溅射一体机通过实验测试，双面镀铜1微米的设计生产速度为10米/min。公司近期披露拟投资约10亿元建设新能源高端装备制造项目，项目完全达产后公司预计实现年产真空磁控溅射设备100套、真空蒸镀设备100套、复合铜箔一体机成套设备100套、锂电生箔机成套设备200套及阳极板6000套等。

复合铜箔设备加速拓展，开启全新成长曲线：PET复合铜箔是传统锂电池集流体的良好替代材料。我们预计2025年PET铜箔磁控溅射新增设备市场空间约36亿元，镀铜设备新增市场空间约24亿元，设备总市场空间合计60亿元。目前公司在重点研发复合铜箔一体机设备，该设备以真空磁控溅射为核心，公司预计磁控溅射一体机单GWh的价值量约为5000余万元。目前已与部分电解铜箔行业龙头企业、复合铜箔集流体企业等意向客户接洽，公司计划复合铜箔一体机设备于2023Q1完成组装调试，正式推向市场。

我国已经实现了复合铜箔生产设备的量产。复合铜箔的生产设备包括磁控溅射设备和水平连续镀膜设备，这两种设备国内均能生产，并已实现规模化交付使用，极大解决了膜类产品的生产设备进口难等问题。

公司依托电镀领域深厚技术储备，形成复合铜箔设备一体化布局。复合铜箔对传统铜箔的替代已成产业趋势，其生产设备由真空磁控溅射双面镀铜设备与后道的水电镀设备组成。针对该领域，公司开发水电镀设备并实现业内量产，在此基础上向前道工艺延伸，在多年磁控溅射镀膜技术基础之上，开发出适合产业化发展的磁控溅射类双面镀铜镀膜设备，与水电镀设备工艺密切衔接，形成复合铜膜生产一体化布局。

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