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超高真空磁控溅射设备 MS-700

MS-700磁控溅射设备是一款具有多功能、多阴极的磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度的特点。MS-700设备可根据需求配置12个2inch 或6个3inch或4个4inch圆形阴极，可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产中高精度工艺和多靶溅射的需求。

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超高真空磁控溅射设备 MS-700

超高真空磁控溅射设备 MS-400

MS-400磁控溅射设备是一款多功能多靶磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度，设备维护简单的特点。MS-400设备标配6个2inch共焦超高真空阴极，可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求，维护简单，运行稳定。

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超高真空磁控溅射设备 MS-400

矩形磁控溅射设备SP-400

SP-400型矩形磁控溅射设备采用简单、可靠、成熟的模块化设计,配备4个2inch阴极，兼容 4inch 及以下晶圆,可选配进样室和自动传样功能,设备性能稳定,具有极高性价比，能够实现单靶溅射和多靶共溅射,满足实验室纳米级多元材料的科研制备需求。

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矩形磁控溅射设备SP-400

磁场退火炉设备MFA-100

磁控退火炉设备具有超高真空、磁场强度可控、温度可调节的特点，样品兼容程度高取放样便捷。满足实验室科学研究的需求,维护简单,运行稳定。

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磁场退火炉设备MFA-100

科研型原子层沉积设备ALD-200

ALD-200 是针对高校实验室及研究院所开发的高性能、多功能、可定制化的单原子层化学气相沉积设备,可实现高K栅氧化层、介质材料以及多元组分化合物的精确沉积,工艺类型可选热型或等离子体增强型。先进的样平台、等离子体线圈以及流场设计实现沉积薄膜的高均匀性。优化的气路结构设计实现多元组分化合物的精确调控。适用于先进材料和先进器件研究。

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科研型原子层沉积设备ALD-200

桌面式磁控溅射设备—MS-200

MS-200设备是一款小型台面式溅射设备，标配3个2inch阴极靶头，可灵活选择阴极向上或向下溅射，满足简单的材料研究需求。

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桌面式磁控溅射设备—MS-200

激光分子束外延设备LMBE-300

脉冲激光沉积设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。LMBE-300设备通过脉冲激光的高能量使材料蒸发甚至电离，标配6个1inch靶材，可实现氧化物和多组分薄膜沉积。

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激光分子束外延设备LMBE-300

科研级电子束蒸发设备 EB-400

电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗，可用于超导量子等领域，适用于高校及企业研发和小规模生产场合。

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科研级电子束蒸发设备 EB-400
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