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产业级薄膜制备设备

科研级薄膜制备设备

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8英寸物理气相沉积设备—Trutholar200-H-10

8英寸物理气相沉积设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的装备。Trutholar200-H-10型物理气相沉积设备采用多个真空腔室互联的设计，通过晶圆真空传输平台实现晶圆的传输，可搭配多个溅射室或处理腔室，适用于生产产线或实验线。

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8英寸物理气相沉积设备—Trutholar200-H-10

12英寸物理气相沉积设备—Trutholar300-S-10

12 英寸物理气相沉积设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的装备。Trutholar 300-S-10 型物理气相沉积设备采用多个真空腔室互联的设计,通过晶圆真空传输平台实现晶圆的传输,可搭配多个溅射室或处理腔室,适用于生产产线或实验线。

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12英寸物理气相沉积设备—Trutholar300-S-10

生产型磁控溅射设备—MSI-100

生产型磁控溅射设备是针对企业和高校实验室及小试线研发的高性能、低成本和高效率的磁控溅射装备。MSI-100型磁控溅射设备采用简单可靠的模块化设计，包括进样室和溅射室，可满足8inch晶圆上纳米级材料的生产制备需求，具有稳定、可靠、成本低的特点。

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生产型磁控溅射设备—MSI-100

热阻蒸发设备—TEI-200

热阻蒸发设备可实现金属、介质材料以及有机材料的蒸发与沉积,样品台可选水冷型或加热型,旋转式或可调倾角式。材料置于蒸发舟中并被加热至蒸发点，而后蒸发的原子沉积在晶圆表面形成薄膜。适用于材料研究和生产领域。

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热阻蒸发设备—TEI-200

线性薄膜沉积设备—LMSI

线性薄膜沉积设备用于玻璃基板、大批量工件镀膜领域，可选配直流或射频电源，可实现大面积的均匀沉积。设备可选配离子源、热蒸发源和电子束蒸发源等。设备适用于企业生产场合。

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线性薄膜沉积设备—LMSI

8英寸高真空磁场退火炉

8 英寸磁场真空退火炉适用于软磁材料及需要在高温、高真空、强磁场环境加热和退火的各种材料,可以使磁畴沿磁场方向排列,降低磁晶各向异性能,提升软磁性能,促进特定取向晶粒的择优生长,显著提高磁导率。

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8英寸高真空磁场退火炉

8英寸原子层沉积设备—ALDI-100

ALDI-100 是针对企业、高校实验室及小试线研发开发的高性能、高效率、可定制化的原子层沉积设备,可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜沉积需求,兼具高性能薄膜的精确制备和 200mm 及以下晶圆小批量量产的需求。采用自主设计的腔体结构和进源设计以及先进的样平台偏压设计可以实现 TSV 高深宽比通孔镀膜工艺和 GAA 围栅工艺。适用于先进封装和先进逻辑器件研究。

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8英寸原子层沉积设备—ALDI-100

电子束蒸发设备—E-Beam-HV

电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗，可用于超导量子等领域，适用于高校及企业研发和小规模生产场合。

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电子束蒸发设备—E-Beam-HV
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