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生产型磁控溅射设备—MSI-100-UHV


生产型磁控溅射设备是针对企业和高校实验室及小试线研发的高性能、高效率的磁控溅射装备,该超高真空版本提供更高的溅射室真空度,兼具高性能薄膜的制备和小批量量产的需求。MSI-100-UHV型磁控溅射设备极限真空度优于1×10-8mbar,包括进样室和溅射室,可满足8inch晶圆上高精度纳米级材料的生产制备需求。

关键词:

高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发

所属分类:

产业级薄膜制备设备

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生产型磁控溅射设备—MSI-100-UHV

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