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8英寸原子层沉积设备—ALDI-100
ALDI-100 是针对企业、高校实验室及小试线研发开发的高性能、高效率、可定制化的原子层沉积设备,可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜沉积需求,兼具高性能薄膜的精确制备和 200mm 及以下晶圆小批量量产的需求。采用自主设计的腔体结构和进源设计以及先进的样平台偏压设计可以实现 TSV 高深宽比通孔镀膜工艺和 GAA 围栅工艺。适用于先进封装和先进逻辑器件研究。
关键词：
高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发
所属分类：
产业级薄膜制备设备
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8英寸原子层沉积设备—ALDI-100
详情介绍
ALDI-100 是针对企业、高校实验室及小试线研发开发的高性能、高效率、可定制化的原子层沉积设备,可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜沉积需求,兼具高性能薄膜的精确制备和 200mm 及以下晶圆小批量量产的需求。采用自主设计的腔体结构和进源设计以及先进的样平台偏压设计可以实现 TSV 高深宽比通孔镀膜工艺和 GAA 围栅工艺。适用于先进封装和先进逻辑器件研究。
性能参数
| 晶圆尺寸 | 8-inch |
| 极限真空 | 优于5×10-7mbar |
| 沉积不均匀性 | 低于2% |
| 进样室 | 单片进样 |
| 工艺温度 | 室温~500℃,控温精度：±1℃ |
| 前驱体源 | 8路,可选不同类型 |
| 等离子体气路 | 4路（氩气、氧气、氢气、氨气），可选不同类型 |
| 工艺类型 | 热型或等离子体增强型（最大功率1000W） |
| 适用工艺 | Al2O3、HfO2、ZnO、ZrO2、SiO2、AIN、TiN、TaN、Ru、Mo、W、Co,etc.xia'biao |
| 可选 | 膜厚检测(椭偏仪、QCM)、工艺菜单、手套箱等 |
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