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8英寸高真空磁场退火炉
8 英寸磁场真空退火炉适用于软磁材料及需要在高温、高真空、强磁场环境加热和退火的各种材料,可以使磁畴沿磁场方向排列,降低磁晶各向异性能,提升软磁性能,促进特定取向晶粒的择优生长,显著提高磁导率。
关键词:
高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发
所属分类:
产业级薄膜制备设备
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8英寸高真空磁场退火炉
详情介绍
8 英寸磁场真空退火炉适用于软磁材料及需要在高温、高真空、强磁场环境加热和退火的各种材料,可以使磁畴沿磁场方向排列,降低磁晶各向异性能,提升软磁性能,促进特定取向晶粒的择优生长,显著提高磁导率。
性能参数
| 晶圆尺寸 | 8-inch |
| 晶圆数量 | 10-25片 |
| 磁场强度 | 1.1-1.5T |
| 磁体类型 | 无液氦超导磁体 |
| 极限真空 | 优于5×10-7mbar |
| 温度范围 | 常温-800℃ |
| 温度均匀性 | ±3℃ |
| 样品台 | 旋转样品台或倾角可调样品台 |
| 传样方式 | 横向或纵向 |
| 可选 | 自动传输、工艺菜单等 |
| 应用 | 高温、高真空、强磁场退火工艺 |
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