线性薄膜沉积设备—LMSI

线性薄膜沉积设备用于玻璃基板、大批量工件镀膜领域，可选配直流或射频电源，可实现大面积的均匀沉积。设备可选配离子源、热蒸发源和电子束蒸发源等。设备适用于企业生产场合。

关键词：

高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发

所属分类：

产业级薄膜制备设备

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线性薄膜沉积设备—LMSI

详情介绍

性能参数

工件尺寸	1m*1m向下兼容晶圆数量
沉积不均匀性	低于5%
批次间重复性	优于±2%
极限真空	优于5×10^-7mbar
进样室	自动传输，可选装载数量，可选机械臂抓手形状，可选mask
阴极	矩形阴极，尺寸可调
电源	可选DC、RF、DCPulse、HIPIMS
应用场景	工件批量生产、材料研究、光学薄膜、LCD 基板等
可选	双面镀、样品翻转、低温泵、反应溅射、膜厚仪等

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