矩形磁控溅射设备SP-400

SP-400型矩形磁控溅射设备采用简单、可靠、成熟的模块化设计,配备4个2inch阴极，兼容 4inch 及以下晶圆,可选配进样室和自动传样功能,设备性能稳定,具有极高性价比，能够实现单靶溅射和多靶共溅射,满足实验室纳米级多元材料的科研制备需求。

关键词：

高精度磁控溅射设备、薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发

所属分类：

科研级薄膜制备设备

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矩形磁控溅射设备SP-400

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