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MS-700磁控溅射设备是一款具有多功能、多阴极的磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度的特点。MS-700设备可根据需求配置12个2inch 或6个3inch或4个4inch圆形阴极，可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产中高精度工艺和多靶溅射的需求。

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晶圆真空传输平台采用四边形、六边形或八边形设计，可以实现多个工艺室的互联，系统可选配机械臂和校准装置，可实现8或12吋晶圆的自动传输。系统搭配控制软件可实现安全可靠的控制。

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生产型磁控溅射设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的磁控溅射装备。MSI-200型磁控溅射设备采用多个真空腔室互联的设计，通过Cluster内置的三维机械手实现晶圆的传输，可搭配多个溅射室或处理腔室，适用于生产产线或实验线。

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