同芯共链 | 致真设备亮相2024深圳国际半导体产业及应用展览会

时间:

2024-04-12


        4月9日-11日,华南地区乃至全国颇具权威性与专业化的半导体行业品牌盛会,2024深圳国际半导体产业及应用展览会在深圳福田会展中心盛大举办。作为高精度物理气相沉积设备领航者,致真设备精彩亮相,展示了多项高端薄膜沉积设备的最新科研成果和工艺装备解决方案,与现场参会者共同探讨了半导体产业未来发展方向。

尖端科技 实力印证

        薄膜沉积设备作为半导体制造三大核心设备之一,是后续几乎所有工艺的基础,重要性不言而喻。致真设备,主营国产高端科研级和工业级薄膜制备系统,致力于提升国产高端薄膜沉积设备的自主可控水平,不断为客户提供更多的前沿产品与创新解决方案。

科研级薄膜制备系统

        我司现有多型磁控溅射系统MS-700、MS-400、MS-300、MS-200,可根据需求配置不同尺寸和数量的阴极,具有超高真空、单原子层沉积精度特点。真空退火炉VF-200、脉冲激光沉积系统PLD-400、电子束蒸发系统E-Beam-UHV、分子束外延系统MBE-400。维护简单,运行稳定,适用于研发和生产中高精度工艺和多靶溅射的需求。

产业级薄膜制备系统

        我司现有生产型磁控溅射系统MSI-100-HV、MSI-100-UHV,模块化设计稳定可靠,可满足8吋晶圆上纳米级材料的生产制备需求。量产型磁控溅射系统MSI-200、量产级多功能薄膜沉积系统,可实现多种材料的精确沉积,高性能、高效率、低成本,适用于生产产线或实验线。

真空传输平台

        我司现有晶圆真空传输平台VTM,超高真空管道传输系统,可选配机械臂和校准装置,通过多个工艺室的互联,实现8或12吋晶圆的自动传输。我司还推出了适用于2-8吋晶圆的超高真空互联系统,成本可控、运行可靠,均适用于生产产线或实验室。

同芯共链 聚力同行

        在目前优越的市场环境及政策支持下,半导体全产业链共同发力,需求端火热,供给端也在努力追赶、加速放量。

        作为一家专业从事高精度物理气相沉积设备及其关键组件研发和制造的高新技术型企业,致真设备将不断提升自主研发水平,满足更高的膜厚精度、薄膜质量、台阶覆盖率等需求,真正实现薄膜沉积设备国产化替代,并为客户提供最优质、最便捷、最高效的全生命周期服务。未来,致真设备将以领先的智能装备、专业的解决方案、优质的客户服务为社会创造价值,将与更多合作伙伴共享发展机遇,共绘中国半导体行业的美好蓝图!

合肥致真精密设备有限公司

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