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致真资讯 | MSI-100生产型磁控溅射设备成功出货
时间：
2024-08-27
近日，由致真设备自主研发设计制造的又一生产型磁控溅射设备MSI-100成功出货。
再传捷报 成功交付
本次致真设备交付的MSI-100生产型磁控溅射设备，是一款多功能多靶磁控溅射设备。设备由进样室、溅射室、冷却出样室、控制系统四部分组成。进样室实现样品快速进样和偏压清洗样品表面功能。溅射室实现特种金属镀膜功能，要求在200mm*220mm区域范围内镀膜厚度达2um～4um。冷却室实现样品取出和冷却降温功能。控制系统主要为PLC和PC组成的控制模块，可实现全自动工艺流程，包括偏压清洗、自动进样、工艺镀膜、自动取样全流程一键操作。整套设备通过精准设计，可稳定传送重达5kg的工件样品。
技术亮点
★灵活多变：
精确控制组分，制备特定功能的复合薄膜和化合物薄膜。
★高效均匀：
可实现更高的沉积速率和更好的薄膜质量。
★强附着力：
高能粒子使薄膜具备更优异的附着力。
★操作便捷：
设备运行稳定，全流程一键操作，维护简单。
该设备沉积过程稳定可靠，成膜质量优异，设备与工艺成果均获得客户认可。
秉承使命 守正创新
致真设备是从事高精度物理气相沉积设备及其关键组件研发和制造的高新技术企业。公司主营产品为国产高端科研级和产业级磁控溅射设备，同时为合作伙伴和客户提供薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发等服务。致真设备始终秉承“追求极致、务实求真”的经营理念，以强大的科研力和高效的品控力，满足客户多元化的订单需求。
自成立以来，致真设备始终以打造“国产高端薄膜沉积设备”为企业使命，深入探索半导体产业前沿，依托自身优势技术创新和储备，持续扩大研发投入，不断在半导体产业的多领域中实现高端薄膜沉积设备的国产化突破和进口替代，设备陆续通过验证后交付，并获得大量订单。
未来，致真设备将与产业链合作伙伴密切合作，持续提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，为客户提供更完备更可靠的设备+工艺一站式解决方案，推动国产半导体装备行业新质生产力蓬勃发展！
合肥致真精密设备有限公司
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