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产品中心 | 致真科研级薄膜制备设备
时间：
2025-03-28
伴随全球科技竞争的加剧，薄膜材料作为信息技术、半导体、光学、新能源等前沿领域的关键基础材料，其重要性日益凸显。薄膜沉积是一种在基底表面形成薄膜层的技术，其中比较常见的制备方法之一是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），简称“PVD”，即通过物理方法将材料从固态或液态转变为气态，然后沉积在基片上，形成薄膜。这种方法形成的薄膜纯净度高、均匀性高，适用于制作导电、金属膜等材料，赋予其特定的物理、化学或电学性能。
致真设备以高精度物理气相沉积为核心技术，致力于为广大企业和高校、科研院所提供设备+工艺的定制化解决方案和全链条服务。
四大技术 精准匹配科研需求
致真设备自主研发生产的科研级薄膜制备设备系列主要应用于4英寸晶圆镀膜，适用于高校科研与企业试线。四大薄膜沉积技术各有其独特优势与适用场景，精准匹配研究需求。
磁控溅射设备
磁控溅射设备以其高均匀性和工艺稳定性，成为半导体薄膜和功能涂层研究的主力设备。其支持反应溅射和多靶共沉积的特点，进一步扩展应用范围。
PLD脉冲激光沉积设备
PLD设备以其高能激光沉积和化学计量比精确控制的特点，成为复杂氧化物和高温超导薄膜研究的理想选择。
E-Beam电子束蒸发设备
E-Beam设备以其高纯度金属和高熔点材料蒸发的能力，广泛应用于金属电极和光学反射镜的制备。其高沉积速率和大面积镀膜能力，使其在工业研发中也备受青睐。
MBE分子束外延设备
MBE设备凭借其原子级外延生长和超高真空环境，成为低维材料和量子结构研究的首 选。无论是半导体量子点还是二维材料，MBE设备都能实现精确控制和高品质薄膜制备。
性能卓越 助力精准高效科研
通过持续的技术创新和工艺优化，致真科研级薄膜制备设备不仅能够满足半导体、光学及新能源等领域对高质量薄膜材料的需求，还为科研机构提供了灵活、可靠的实验平台，助力材料科学与技术的前沿探索与产业化应用。
磁控溅射设备系列
致真设备自主研发生产的系列磁控溅射设备，具备超高真空，可实现0.1nm单原子层沉积精度。设备可选配低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单等。
PLD-300脉冲激光沉积设备
致真PLD-300设备，标配6个1inch靶材，可实现氧化物和多组分薄膜沉积。设备靶材可原位更换，配合RHEED和准分子激光器可实现高质量薄膜的沉积。
E-Beam-UHV电子束蒸发设备
致真E-Beam-UHV设备可在超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备，线性电子束枪可实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆预清洗，可用于超导量子等领域，适用于高校及企业研发和小规模生产需求。
MBE-400分子束外延设备
致真MBE-400设备是实验室中制备高性能单晶材料薄膜的核心设备，可用于制备高性能的氧化物材料、拓扑绝缘体等。
全流程服务 全栈式解决方案
高精度镀膜设备和完备的表征检测设备，形成从薄膜沉积到性能测试的完整闭环，为客户提供全流程服务保障。
致真团队可根据客户需求，开发如自旋、超导量子、MEMS等领域的薄膜工艺菜单，为您提供全面的工艺开发与技术支持，提供设备+工艺的全栈式薄膜沉积解决方案。
合肥致真精密设备有限公司(Truth Equipment Co., LTD)成立于2021年5月，是一家专注于高精度物理气相沉积设备及其关键组件研发和制造的国家高新技术企业。公司依托北京航空航天大学、北航合肥创新研究院、杭州北航国际创新研究院等雄厚的科研力量，研制了多款具有自主知识产权的国产高端科研级和产业级磁控溅射设备，同时为合作伙伴和客户提供薄膜加工制造、工艺调试、设备软件开发等服务。技术驱动、方案营销，致真设备秉承“追求极致、务实求真、敢于创新、合作共赢”的致真精神，致力于提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平，推进产学研深度融合，将先进的科研成果转化为具有竞争力的产品，努力解决集成电路行业卡脖子的关键设备和工艺难题。
合肥致真精密设备有限公司
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