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400腔PLD设备

公司致力于打造国产的高端磁控溅射设备,提升高端薄膜沉积设备的自主可控水平,努力解决集成电路领域科研和制造中设备和工艺短缺的难题。

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脉冲激光沉积设备PLD-300

PLD-300设备,标配6个1inch靶材,可实现氧化物和多组分薄膜沉积。设备靶材可原位更换,配合RHEED和准分子激光器可实现高质量薄膜的沉积。

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