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超高真空磁控溅射设备 MS-700

MS-700磁控溅射设备是一款具有多功能、多阴极的磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度的特点。MS-700设备可根据需求配置12个2inch 或6个3inch或4个4inch圆形阴极，可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产中高精度工艺和多靶溅射的需求。

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超高真空磁控溅射设备 MS-700

超高真空磁控溅射设备 MS-400

MS-400磁控溅射设备是一款多功能多靶磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度，设备维护简单的特点。MS-400设备标配6个2inch共焦超高真空阴极，可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求，维护简单，运行稳定。

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超高真空磁控溅射设备 MS-400

8英寸物理气相沉积设备—Trutholar200-H-10

8英寸物理气相沉积设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的装备。Trutholar200-H-10型物理气相沉积设备采用多个真空腔室互联的设计，通过晶圆真空传输平台实现晶圆的传输，可搭配多个溅射室或处理腔室，适用于生产产线或实验线。

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8英寸物理气相沉积设备—Trutholar200-H-10

12英寸物理气相沉积设备—Trutholar300-S-10

12 英寸物理气相沉积设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的装备。Trutholar 300-S-10 型物理气相沉积设备采用多个真空腔室互联的设计,通过晶圆真空传输平台实现晶圆的传输,可搭配多个溅射室或处理腔室,适用于生产产线或实验线。

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12英寸物理气相沉积设备—Trutholar300-S-10

生产型磁控溅射设备—MSI-100

生产型磁控溅射设备是针对企业和高校实验室及小试线研发的高性能、低成本和高效率的磁控溅射装备。MSI-100型磁控溅射设备采用简单可靠的模块化设计，包括进样室和溅射室，可满足8inch晶圆上纳米级材料的生产制备需求，具有稳定、可靠、成本低的特点。

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生产型磁控溅射设备—MSI-100

热阻蒸发设备—TEI-200

热阻蒸发设备可实现金属、介质材料以及有机材料的蒸发与沉积,样品台可选水冷型或加热型,旋转式或可调倾角式。材料置于蒸发舟中并被加热至蒸发点，而后蒸发的原子沉积在晶圆表面形成薄膜。适用于材料研究和生产领域。

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热阻蒸发设备—TEI-200

矩形磁控溅射设备SP-400

SP-400型矩形磁控溅射设备采用简单、可靠、成熟的模块化设计,配备4个2inch阴极，兼容 4inch 及以下晶圆,可选配进样室和自动传样功能,设备性能稳定,具有极高性价比，能够实现单靶溅射和多靶共溅射,满足实验室纳米级多元材料的科研制备需求。

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矩形磁控溅射设备SP-400

磁场退火炉设备MFA-100

磁控退火炉设备具有超高真空、磁场强度可控、温度可调节的特点，样品兼容程度高取放样便捷。满足实验室科学研究的需求,维护简单,运行稳定。

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磁场退火炉设备MFA-100
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