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ALD-200 是针对高校实验室及研究院所开发的高性能、多功能、可定制化的单原子层化学气相沉积设备,可实现高K栅氧化层、介质材料以及多元组分化合物的精确沉积,工艺类型可选热型或等离子体增强型。先进的样平台、等离子体线圈以及流场设计实现沉积薄膜的高均匀性。优化的气路结构设计实现多元组分化合物的精确调控。适用于先进材料和先进器件研究。
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线性薄膜沉积设备用于玻璃基板、大批量工件镀膜领域，可选配直流或射频电源，可实现大面积的均匀沉积。设备可选配离子源、热蒸发源和电子束蒸发源等。设备适用于企业生产场合。
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8 英寸磁场真空退火炉适用于软磁材料及需要在高温、高真空、强磁场环境加热和退火的各种材料,可以使磁畴沿磁场方向排列,降低磁晶各向异性能,提升软磁性能,促进特定取向晶粒的择优生长,显著提高磁导率。
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ALDI-100 是针对企业、高校实验室及小试线研发开发的高性能、高效率、可定制化的原子层沉积设备,可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜沉积需求,兼具高性能薄膜的精确制备和 200mm 及以下晶圆小批量量产的需求。采用自主设计的腔体结构和进源设计以及先进的样平台偏压设计可以实现 TSV 高深宽比通孔镀膜工艺和 GAA 围栅工艺。适用于先进封装和先进逻辑器件研究。
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