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晶圆真空传输平台采用四边形、六边形或八边形设计，可以实现多个工艺室的互联，系统可选配机械臂和校准装置，可实现8或12吋晶圆的自动传输。系统搭配控制软件可实现安全可靠的控制。
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生产型磁控溅射设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的磁控溅射装备。MSI-200型磁控溅射设备采用多个真空腔室互联的设计，通过Cluster内置的三维机械手实现晶圆的传输，可搭配多个溅射室或处理腔室，适用于生产产线或实验线。
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脉冲激光沉积设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。LMBE-300设备通过脉冲激光的高能量使材料蒸发甚至电离，标配6个1inch靶材，可实现氧化物和多组分薄膜沉积。
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